10.3321/j.issn:1000-0593.2002.06.004
化学发光抑制法测定抗坏血酸
利用抗坏血酸对DTMC-H2O2化学发光体系的抑制作用,研究了对抗坏血酸进行间接测定的可能性.试验发现,化学发光猝灭率(R)与抗坏血酸浓度在1.0×10-7～8.0×10-6 mol·L-1范围内呈线性关系,检出限达到8.0×10-8 mol·L-1(S/N＝3).对1.0×10-6 mol·L-1抗坏血酸进行10次平行测定,其化学发光强度猝灭率相对标准偏差为4.6%.该猝灭体系不需要额外的掩蔽剂,方法简单、选择性好,可直接应用于一些食品中微量抗坏血酸的测定.
化学发光、抗坏血酸、过氧化氢、7-(4,6-二氯-1、3、5-三嗪氨基)-4-甲基香豆素
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O653.7(分析化学)
国家自然科学基金20175031,20035010
2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共3页
888-890
