10.19453/j.cnki.1005-488x.2021.02.010
一种新型MCP离子阻挡膜制备工艺研究
三代微光像增强管需在所使用的微通道板(microchannelplate,MCP)输入面制备离子阻挡膜,以阻挡正离子轰击NEA光电阴极,维持和提高器件使用寿命.为此,研究开发了一种新的MCP离子阻挡膜制备工艺,先采用专用胶体填充MCP微孔,再用电子束蒸发Al2O3膜,蒸发速率为0.05 nm/s,蒸镀后用异丙醇去除微孔中的胶体.实验结果表明,该工艺制备的MCP离子阻挡膜具有膜基结合强度高、通孔面积小、成像质量一致性高等优点,满足三代像增强管对MCP离子阻挡膜的要求.
离子阻挡膜、电子束蒸发、微通道板、Al2O3膜、胶体填孔
41
TN223(光电子技术、激光技术)
2021-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
132-134,142
