期刊专题

10.19453/j.cnki.1005-488x.2019.03.010

一种低使用成本的高精度曝光和测量技术

引用
提出了一种使用小尺寸MASK(光罩)的高精度曝光技术,能够实现1.5 μm分辨率,几乎可以忽略的MASK成本.同时以曝光控制技术为基础,提出了一种快速进行TP/OL/CD精确测量的技术,为降低国产设备的测量使用成本提供了研究方向,同时提高了国产屏的性价比,可大幅降低单点测量时间和测量成本.

曝光、长寸、测量、光罩、精度、成本

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TP23;TH744(自动化技术及设备)

2019-11-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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光电子技术

1005-488X

32-1347/TN

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2019,39(3)

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