10.3969/j.issn.1005-488X.2015.01.001
基于单一相位模板的带状光纤上多波长阵列光纤光栅刻写工艺研究
设计了一种带状光纤上阵列光纤光栅刻写系统,仅利用一块相位掩模板,即实现8芯带纤上阵列光纤布拉格光栅的刻写.使用自行设计的带纤夹具夹持带纤,电控位移平台对带纤整体施加拉伸力,采用相位掩模工艺对光纤逐根曝光,并同时以扫描写入的方法进行汉明切趾.刻栅过程由电脑编程控制,中心波长、波长间隔以及切趾方式可以灵活调整.测试结果表明,刻写完成的阵列光纤布拉格光栅3 dB带宽为0.2 nm、波长间隔为0.5 nm、波长偏差小于±50 pm、反射率达到80％～85％.
带状光纤、光纤光栅、刻写、工艺
35
TN253(光电子技术、激光技术)
国家自然科学基金项目61275093;秦皇岛市市级科技计划项目201401A008
2015-04-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
1-4
