10.3969/j.issn.1005-488X.2012.01.005
沉积压强对非晶硅薄膜光学性能和微结构的影响
为研究沉积压强对非晶硅薄膜光学性能和结构的影响,通过改变沉积压强并采用射频磁控溅射制备a-Si∶H薄膜.借助椭偏仪、紫外可见分光光度计和拉曼光谱来分析薄膜的光学性能和微结构.研究发现,在较低沉积压强下薄膜的致密度得到提高,光学带隙偏小,折射率和消光系数较大,短程序和中程序得到改善,体内缺陷较少.并且椭偏拟合参数A越大,意味着薄膜的质量越好.结果表明,沉积气压确实对薄膜的微结构和光学性能具有重要影响.
a-Si∶H、椭偏、光学性能、拉曼散射、微结构
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O484.4+1(固体物理学)
国家自然科学基金资助项目60876045;上海市基础研究重点项目09JC1405900;上海市重点学科建设项目S30105;SHU-SOEN's PV联合实验室基金SS-E0700601
2012-06-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
19-22,38
