10.3969/j.issn.1005-488X.2007.04.003
有机聚合物光波导光刻工艺的优化
针对RZJ-304(25 mp.s)型正性光刻胶,对芯层为PMMA的光波导材料,研究接触式光刻机提高光刻分辨率的方法.分别采用不同的曝光强度和曝光时间来改变曝光量,研究其对光刻图形宽度的影响;并通过改变曝光后烘焙(PEB)的温度和时间以及采用不同的显影时间,研究了其对光刻图形宽度的影响,从而得出优化的光刻工艺参数.
聚合物光波导、光刻工艺、曝光量、曝光后烘焙
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O472+8(半导体物理学)
教育部科学技术研究重点项目104196
2008-05-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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