基于等离子体光谱的反应磁控溅射镀膜控制系统
为实现精确、稳定、快速的反应溅射镀膜工艺,降低成本,提高品质,设计基于等离子体光谱的反应溅射镀膜控制系统.通过监控反应溅射镀膜过程中等离子体的发射光谱,采用PID算法控制,实时闭环调节反应气体流量.
等离子体光谱、反应磁控溅射
38
TB3;TU8
广东省科技计划项目2016B030303001;广州市科技计划项目2014SY000018
2018-01-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共3页
37-39
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等离子体光谱、反应磁控溅射
38
TB3;TU8
广东省科技计划项目2016B030303001;广州市科技计划项目2014SY000018
2018-01-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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