10.3969/j.issn.1004-4957.2014.03.020
鲁米诺-过渡金属超常氧化态配合物化学发光体系测定氨基糖苷类抗生素
研究发现过渡金属超常氧化态配合物(二羟基二过碘酸根合铜(Ⅲ)配离子(DPC)、二羟基二过碘酸根合银(Ⅲ)配离子(DPA)和二羟基二过碘酸根合镍(Ⅳ)配离子(DPN))在碱性条件下可以氧化鲁米诺而产生化学发光,氨基糖苷类抗生素对该化学发光体系有增敏作用.以DPC为例研究了氨基糖苷类抗生素——托普霉素对该体系的增敏作用,建立了测定血清中托普霉素含量的新方法.考察了溶液酸碱度和化学发光试剂对化学发光强度的影响,在最佳实验条件下,托普霉素浓度在6.0×10-8～2.0×10-6 g/mL范围内与化学发光强度呈良好的线性关系,方法的检出限(3σ)为1.5×10-8 g/mL,对浓度为5.0×10-7 g/mL的托普霉素溶液连续测定7次,相对标准偏差为2.7％.该方法用于血清中托普霉素含量的测定,结果令人满意.
鲁米诺、过渡金属超常氧化态配合物、化学发光、氨基糖苷类抗生素、托普霉素
33
O657.3;O629.13(分析化学)
四川省化学合成与污染控制重点实验室开放项目11CSPC-1-7;西华师范大学博士科研启动基金项10B008;四川省高校科技创新团队建设项目2010008;四川省教育厅项目10ZC013
2014-04-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
354-357
