10.3969/j.issn.1004-4957.2011.10.013
阿昔洛韦在硼掺杂金刚石电极上的电化学行为及其与DNA相互作用的研究
利用硼掺杂金刚石(BDD)电极通过循环伏安法和微分脉冲伏安法研究了阿昔洛韦在0.10 mol/L磷酸盐缓冲溶液(pH 7.4)中的电化学行为及其与DNA的相互作用.与玻碳电极相比,阿昔洛韦在BDD电极上的循环伏安曲线在1.17 V处的氧化峰电流更大,背景电流较低.根据峰电位随溶液pH值和扫描速率的变化趋势考察了阿昔洛韦的电化学氧化机理,认为阿昔洛韦在BDD电极上的电化学氧化过程有2个电子和2个质子参与.对不同比例阿昔洛韦和DNA相互作用的研究表明,两者的相互作用模式为插入模式,结合位点数为1.07,结合常数为4.47 × 106,并通过阿昔洛韦与同浓度单、双链DNA的相互作用得到验证.
硼掺杂金刚石电极、阿昔洛韦、DNA、相互作用
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O657.1;TQ460.72(分析化学)
国家自然科学基金资助项目21105062,21175091
2012-01-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
1148-1152
