10.3969/j.issn.1003-0107.2015.06.016
片阻端面垂直溅射研究
该文针对片式电阻器的特点设计了垂直溅射工艺,研究了垂直溅射方式对片阻端头对称率及溅射层阻值的影响,并给出了试验数据.实验结果表明:垂直溅射工艺能提高片阻产品端头对称性,改善产品的外观.
片阻、垂直溅射、端头对称率、阻值
TN6(电子元件、组件)
2015-07-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
60-64
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10.3969/j.issn.1003-0107.2015.06.016
片阻、垂直溅射、端头对称率、阻值
TN6(电子元件、组件)
2015-07-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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