10.3969/j.issn.1003-0107.2014.01.006
半导体纳米线制备中干法刻蚀技术的研究
近年来,一维纳米结构:纳米管、纳米线、纳米带等,引起了人们的广泛关注.如何制备高质量的纳米结构依然是我们面临的巨大挑战.该文通过干法刻蚀技术制备的纳米线阵列来突出说明该技术今后的发展是多样化的,而且仍然方兴未艾.
一维纳米结构、纳米线、尺寸、干法刻蚀技术
TN305.7(半导体技术)
2014-05-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
20-21
10.3969/j.issn.1003-0107.2014.01.006
一维纳米结构、纳米线、尺寸、干法刻蚀技术
TN305.7(半导体技术)
2014-05-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
20-21
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn