10.3969/j.issn.1004-4507.2022.05.001
高温外延炉气体压力控制系统的实现
针对碳化硅外延工艺过程中压力控制范围大、控制精度高的要求,以及受到温度、气流变化大的影响,介绍了一种用于碳化硅高温外延工艺的高温外延炉腔内压力控制系统.通过分析碳化硅外延炉压力控制系统,提出了模糊自适应PID控制算法.在国产碳化硅外延设备上进行验证,实验结果表明压力控制系统具有较快的响应速度和较低的超调量,效果良好,能满足碳化硅高速外延需求.
碳化硅、高速外延、压力控制、比例积分微分
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TN305(半导体技术)
季华实验室自主重大项目X210241TC210
2023-01-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
1-4,31
