10.3969/j.issn.1004-4507.2022.04.011
SiC功率器件制造中的湿法工艺设备研究
简述了SiC功率器件制造工艺流程,对常用的抛光片清洗、RCA清洗、SPM湿法去胶、有机去胶、SiO2腐蚀、金属腐蚀和金属剥离等湿法设备进行了应用研究,对于提升SiC功率器件成品率起着重要的作用.
SiC功率器件、抛光片清洗、有机去胶、金属湿法腐蚀、金属剥离
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TN305(半导体技术)
2022-10-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
48-52
10.3969/j.issn.1004-4507.2022.04.011
SiC功率器件、抛光片清洗、有机去胶、金属湿法腐蚀、金属剥离
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TN305(半导体技术)
2022-10-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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