10.3969/j.issn.1004-4507.2022.01.013
一种无源真空吸附装置的研究
为消除真空管路对高精密工件台的干扰,提出并开发了一种无气源、无管路干扰的真空吸附装置,采用与吸盘结构集成的机械驱动装置在常压环境中自动产生真空源,直接实现吸盘吸附硅片的功能,通过对该装置进行试验分析,结果表明,在60 s内可保持吸盘-40～-50 kPa的真空压力,可满足硅片在曝光过程中的吸附要求.
工件台、无源真空、吸附装置
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TN305(半导体技术)
2022-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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