10.3969/j.issn.1004-4507.2021.04.008
离子束溅射沉积设备制备薄膜均匀性研究
针对离子束溅射沉积设备薄膜均匀性问题,采用理论分析计算和试验相结合的方法计算了薄膜厚度的分布差异,由此设计出修正板外形.实验结果表明,修正后的薄膜均匀性从32％提高到了1.7％.
离子束溅射沉积;薄膜;修正板;均匀性
50
TN305(半导体技术)
2021-08-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
35-39
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10.3969/j.issn.1004-4507.2021.04.008
离子束溅射沉积;薄膜;修正板;均匀性
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TN305(半导体技术)
2021-08-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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