10.3969/j.issn.1004-4507.2021.04.006
锗片表面钝化探究进展
从锗片实际应用中存在的表面均匀性差、表面质量不稳定问题出发,对影响锗片表面质量的因素进行了分析.研究结果表明,对锗片表面进行钝化后,能够改变锗抛光片表面的悬挂键状态、降低界面态密度,最终提高锗片的实际应用效果.并重点对氢钝化、氯钝化、氮钝化、硫钝化、硅钝化、氟钝化、烷烃钝化等主流钝化方式的适用性及优劣性进行了对比分析,对比分析主要从钝化液种类的选取、钝化时间与温度、钝化效果几个方面进行.
锗片;钝化;表面质量;悬挂键;界面态密度
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TN305.5(半导体技术)
2021-08-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
27-30,39
