10.3969/j.issn.1004-4507.2020.03.002
硼扩散机理及工艺应用技术研究
针对高效晶硅太阳电池对表面扩散掺杂技术的要求,阐述了干法硼扩散掺杂原理及弊端;通过引入湿法再分布扩散方式,分析了气体流量、水汽流量和工艺匹配性等因素对硅片表面扩散效果的影响;根据和干法扩散方式在应用效果方面的对比,分析了湿法再分布扩散工艺在产业化应用方面的优点.
高温扩散、干法硼扩散、湿法再分布硼扩散
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TN305.3(半导体技术)
中国-埃及可再生能源联合实验室项目KY201501003
2020-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共8页
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