10.3969/j.issn.1004-4507.2020.02.011
电子束直写曝光机的原理与常见问题分析
介绍了电子束曝光的分类和特点,阐述了电子束直写曝光的核心部分-电子光柱体的结构、原理以及工作方式;并且介绍了电子束的产生、偏转、曝光过程以及电子束的束斑类型以及扫描方式;分析了影响电子束曝光分辨率的关键参数以及邻近效应对工艺的影响.
电子束直写曝光、邻近效应、光刻工艺
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TN305.7(半导体技术)
2020-05-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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