10.3969/j.issn.1004-4507.2020.01.011
ICP工艺原理与故障分析
介绍了ICP工艺的特点、工艺原理,以及设备的基本结构.根据多年的设备维护经验,分析了ICP设备的常见故障及其起因,提出了处理措施;分析总结了影响ICP工艺质量的主要因素.
等离子体刻蚀、感应耦合等离子(ICP)、故障分析、工艺维护
49
TN305.7(半导体技术)
2020-06-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
50-54
10.3969/j.issn.1004-4507.2020.01.011
等离子体刻蚀、感应耦合等离子(ICP)、故障分析、工艺维护
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TN305.7(半导体技术)
2020-06-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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