10.3969/j.issn.1004-4507.2020.01.006
晶片干燥技术在高洁净湿法清洗设备中的应用
干燥的目的是去除晶片表面的液体,保证晶片的洁净度.干燥技术作为湿法清洗最后的步骤,最终决定了晶片清洗的表面质量.分别探讨了离心甩千干燥单元、IR干燥、Marangoni干燥等技术,同时介绍了各自的优缺点,这些技术在高洁净湿法批处理清洗设备中都有非常广泛的应用.
颗粒、干燥、离心甩干、IR干燥、Marangoni干燥
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TN305.97(半导体技术)
2020-06-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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