10.3969/j.issn.1004-4507.2018.05.007
制取高浓度臭氧超净水方法及其设备
采用超窄间隙介质阻挡电离放电方法将氧离解、电离、电离离解成低温氧等离子体,其中O- 和O2(a1Δg)等活性粒子在电场中反应生成高浓度臭氧O3,臭氧浓度达到286 mg/L.臭氧产生设备输出高浓度臭氧输送给气液溶解混合装置, 将高浓度臭氧强激励溶解于超净水中形成高浓度臭氧超净水,仅用3 min其浓度达到54.6 mg/L.所形成高浓度超净臭氧水将把硅片表面颗粒物、金属离子、粘附有机物、自然氧化膜等消除掉.解决硅片表面存在的质量技术问题.
清洗硅片表面、臭氧超净水、超窄间隙介质阻挡电离放电、等离子体源、气液溶解混合
TN305(半导体技术)
国家高技术研究发展计划8632008AA06Z317;国家自然科基金资助项目61371027、507778028、50578020、61671100
2019-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
22-25,54
