10.3969/j.issn.1004-4507.2017.05.003
光刻机光强影响因素分析
曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响.通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向.
光刻机、曝光系统、曝光强度
46
TN305.7(半导体技术)
2017-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
18-21
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10.3969/j.issn.1004-4507.2017.05.003
光刻机、曝光系统、曝光强度
46
TN305.7(半导体技术)
2017-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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