10.3969/j.issn.1004-4507.2017.02.006
涂胶显影技术改进对光刻工艺的影响
影响光刻工艺的因素有很多,既有光刻机的因素,又有涂胶显影技术因素,而通过改造光刻机来提高光刻工艺,往往价格非常高昂;所以改进涂胶显影技术就成为了提高光刻工艺的一种低廉而有效的手段.介绍了对涂胶显影技术改进,且分析了其对光刻工艺的影响.
涂胶显影、光刻工艺、工艺改进
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TN307(半导体技术)
2017-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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