10.3969/j.issn.1004-4507.2015.11.008
CMP设备兆声清洗原理及应用
从空化作用和声波流作用两方面对兆声清洗的物理原理进行深入分析,研究了兆声频率及功率对空化强度、边界层厚度、声波流速等关键因素的影响,从而阐明兆声波清洗的特点及其适用场合.同时以AMAT公司的设备为例,介绍了兆声波清洗在CMP后清洗中的实际应用案例.
兆声波清洗、兆声频率、化学机械平坦化、后清洗
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TN30(半导体技术)
2015-12-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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