10.3969/j.issn.1004-4507.2015.08.004
抛光垫修整系统的应用研究
抛光垫修整器系统是CMP设备的重要组成部分,它可以优化CMP的工艺结果,有效延长抛光垫的寿命;通过介绍抛光垫修整器装置的整体结构、机械结构、气动控制及建立数学模型,并利用Matlab软件进行仿真,得出全抛光垫均匀修整覆盖的模型,指出今后抛光垫修整器应具备更多功能,以满足抛光垫的修整需要.
化学机械平坦化、抛光垫修整器、抛光垫、集成电路设备
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TN305(半导体技术)
2015-09-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
15-18,50