10.3969/j.issn.1004-4507.2015.06.009
浅谈曲面直写式光刻工艺
针对一些曲面栅网器件的加工工艺,从实验装置、光刻原理、光刻工艺及参数要求等方面进行了分析,为后续深入开展曲面直写式光刻工艺打下了基础.
半导体设备、曲面、直写式、光刻
TN305.7(半导体技术)
2015-08-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
41-44
10.3969/j.issn.1004-4507.2015.06.009
半导体设备、曲面、直写式、光刻
TN305.7(半导体技术)
2015-08-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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