10.3969/j.issn.1004-4507.2015.02.003
PECVD的原理与故障分析
介绍了PECVD 工艺的种类、工艺原理以及设备的基本结构；根据多年对设备的维护经验，分析了PECVD 设备的常见原因，提出了处理措施；最后，分析总结了影响PECVD 工艺质量的主要因素。
化学气相淀积、等离子增强型化学气相淀积、故障分析、工艺维护
TN304.055(半导体技术)
2015-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
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10.3969/j.issn.1004-4507.2015.02.003
化学气相淀积、等离子增强型化学气相淀积、故障分析、工艺维护
TN304.055(半导体技术)
2015-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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