10.3969/j.issn.1004-4507.2014.11.017
应用材料公司推出存储器件先进图形生成解决方案
全球领先的半导体、平板显示和太阳能光伏行业精密材料工程解决方案供应商应用材料公司，日期宣布与三星电子有限公司及韩国领先的光刻去胶设备制造商 PSK 公司合作，开发出一款面向下一代 N A N D 和 D R A M 存储器件的先进图形生成解决方案。这款全新解决方案包括两大部分--以应用材料公司的 Producer X P Preci-sionTM C V D *系统沉积出的 SaphiraTM A PF *硬掩膜，以及利用 PSK 公司的 O M N ISTM 去胶机清除Saphira 硬掩膜的工艺。该解决方案目前已开始销售，其合二为一的创新理念无疑成为精密材料工程在复杂图形生成应用领域的重大突破。
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TN3;TP3
2015-01-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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