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10.3969/j.issn.1004-4507.2014.06.002

ASML扫描机与NIKON步进机的匹配技术

引用
如何实现PA S 扫描机与N SR 步进机混合匹配,从匹配的可行性、匹配步骤、匹配精度控制、匹配校准问题进行分析,最终实现PA S5500/700与N SR 2205i12之间的匹配和混合光刻技术,包括:(1)PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配目的;(2)PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配步骤;(3)PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配参数调整;(4)PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配校准;(5)PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配试验过程及结果;(6)PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配结论。 <br>  该技术已成功地应用于高性能集成电路器件的研制和生产,实现了180 nm 线宽和350 nm线宽工艺的稳定匹配曝光。

光刻技术、匹配校准、对准技术、匹配光刻技术

TN305.7(半导体技术)

2014-07-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共10页

3-11,42

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

2014,(6)

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