10.3969/j.issn.1004-4507.2014.02.005
全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍
介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程.同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统.
半导体、光刻版清洗、单晶圆清洗、自动设备
43
TN305.97(半导体技术)
2014-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
23-27,37
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10.3969/j.issn.1004-4507.2014.02.005
半导体、光刻版清洗、单晶圆清洗、自动设备
43
TN305.97(半导体技术)
2014-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
23-27,37
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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