10.3969/j.issn.1004-4507.2014.02.003
高亮度LED步进投影光刻机及其量产应用
图形化蓝宝石衬底(PSS)工艺在改善GaN晶体外延生长质量以及提升LED器件发光提取效率方面作用显著,并被LED行业大量采用.针对高亮度LED量产线大量采用二手投影光刻机制备PSS衬底所面临的焦深不足、垂向控制容易离焦,以及运动台拼接精度不足等问题导致的PSS良率仅有70％～80％的现象,有针对性地在新研制的高亮度LED光刻机中采用最佳线宽/焦深选择技术、无缝拼接技术、Mapping垂向控制技术,使PSS的制造良率达到95％以上,极大地降低了PSS制造返工成本.同时,针对芯片细电极曝光需求,采用精密机器视觉对准技术,实现了芯片电极层1μm线宽下200 nm套刻精度.
光刻机、图形化蓝宝石衬底、发光二极管、氮化镓
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TN304;TN305(半导体技术)
2014-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共8页
11-17,60
