10.3969/j.issn.1004-4507.2014.02.001
CMP透明膜厚测量设备发展历程
论述了反射光谱学及椭圆偏振法的原理,根据这些原理分析了离线测量设备,并列举了具有代表性的设备Nanospec6100和KLA-TENCOR的ASET-F5X,指出离线设备的特点及其局限性;分析了集成测量平台的特点,相比于离线测量,集成测量平台可获得较高的片间非均匀性,但会造成前5～7片的浪费,列举代表性集成平台NovaScan 2040,并分析其具体的技术特点;分析了在线传感器终点检测的优越性,其具有控制薄膜形貌及终点检测的功能,结合先进过程控制,可以达到极高的平整度;结合以上分析,指出今后CMP设备的发展方向.
化学机械平坦化、光学干涉法、椭圆偏振法、离线检测、集成测量平台、在线传感器测量
43
TN305.2(半导体技术)
2014-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
1-5
