10.3969/j.issn.1004-4507.2013.11.001
射频离子束辅助溅射镀膜设备的研制
介绍了一种用于氧化物薄膜制备的射频离子束辅助溅射镀膜设备,阐述了设备原理、组成、特点以及试验结果.通过使用射频离子源和射频中和器,解决了采用热灯丝离子源的同类设备中灯丝易被氧化的关键问题,适合于氧化物薄膜制备.
离子束、溅射、薄膜、射频离子源、溅射靶
42
TN305.92(半导体技术)
2014-03-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
1-3,32
10.3969/j.issn.1004-4507.2013.11.001
离子束、溅射、薄膜、射频离子源、溅射靶
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TN305.92(半导体技术)
2014-03-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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