10.3969/j.issn.1004-4507.2012.07.009
射频等离子清洗系统设计
等离子清洗具有优越的环境特性和去污能力,但缓慢的清洗速度限制了等离子清洗技术的应用,近期等离子领域的研究及实践表明通过控制等离子体的生成条件和工艺气体可以显著提高等离子清洗的去污速度,从而为扩展等离子技术在工业中的应用提供可能。介绍了等离子清洗的原理和方法,分析了影响等离子清洗效果的因素,并完成了射频等离子清洗系统的设计。
等离子清洗、影响因素、射频
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TN305.97(半导体技术)
2012-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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