10.3969/j.issn.1004-4507.2012.03.013
CMP系统真空供给系统设计
研制了一套化学机械抛光机（CMP）专用的真空供给系统，主要由水环式真空泵、真空泵箱体、真空储气罐和水箱（汽水分离器）组成及控制模块组成。设计了水箱供水控制模块、水箱温度自动控制模块，通过控制水箱水温进而控制真空泵工作液的温度，保证真空度要求，同时也达到节约用水、降低能耗的要求。采用有限元分析软件ANSYS Workbench对真空供给系统机架进行了模态分析，研究机架的振型、固有频率，从而在结构设计上避免共振。
化学机械抛光、真空供给系统、温度自动控制、ANSYS、Workbench、模态分析
41
TN948.43
国家02重大专项2009ZX02011-005A
2012-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
45-49
