10.3969/j.issn.1004-4507.2011.12.004
硼扩散技术研究
对硼扩散浓度和扩散深度的控制技术进行了研究。通过采用两步扩散步骤、预扩散采用双面扩散的方式、再分布采用密闭碳化硅管、控制扩散温度和扩散时间,有效地控制了扩散层浓度和结深。
硼、扩散浓度、扩散深度
40
TN305.4(半导体技术)
2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共3页
12-14
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10.3969/j.issn.1004-4507.2011.12.004
硼、扩散浓度、扩散深度
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TN305.4(半导体技术)
2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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