10.3969/j.issn.1004-4507.2011.08.003
CMP中真空供应系统的设计
针对CMP在低生产量及实验室条件下对真空供应系统的特别要求：（1）持续稳定的真空供应;（2）能够及时处理倒流液体;（3）真空电机不易长时间连续工作的要求,从气动性、硬件电路和软件流程图进行全面设计：增加独立的真空槽体和排液槽体,在正常运行情况下二者串联增加真空供应容积,并且自主收集倒流废液,而排液中依然可保证真空稳定供应;增加SMC真空开关及相应的控制系统,保证真空处于最低和最高设置负压之间,同时实现真空电机间歇式工作。从根本上解决了以上问题,且控制系统简洁可靠,满足生产需要。
化学机械平坦化、真空系统、电磁阀、继电器、真空槽体
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TN305.2(半导体技术)
2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
9-11,18
