10.3969/j.issn.1004-4507.2011.07.011
局部增强压焊块铝层厚度的工艺方法
针对目前铜线封装对芯片压焊块的铝层厚度要求较高的问题,通过改进芯片制造工艺流程,对芯片内部压焊块的铝层进行单独地加厚。以便同时满足芯片封装厂采用铜线打线和芯片制造厂金属刻蚀工艺难易的要求。做法为,在钝化层刻蚀完成后,再生长一层足够厚的金属层,进行钝化层反版的光刻以及湿法刻蚀,只保留下压焊块区域的金属层,此时压焊块区域就有两层叠加的金属层,完全满足打铜线封装的要求。
铜线封装、压焊块、溅射、钝化层、反版
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TN405(微电子学、集成电路（IC）)
2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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