10.3969/j.issn.1004-4507.2011.07.007
清洗液温度及浓度对硅研磨片清洗效果的影响
超声波清洗在硅片生产中具有广泛的应用,影响超声波清洗效果的因素有很多,如清洗液温度、清洗液浓度等。为了研究清洗温度和清洗液浓度对硅研磨片清洗效果的影响,在实验中通过改变清洗液温度及清洗液的浓度,最后观察硅片表面洁净情况。得出清洗液温度和清洗液浓度不是越高越好,在某一具体工艺下,都存在一个适宜范围,在适宜范围内,硅片的清洗效果相对较好,同时研究了清洗时间对硅研磨片清洗效果的影响。
硅片、超声波清洗、清洗液温度、清洗液浓度、清洗时间
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TN305.97(半导体技术)
2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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