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10.3969/j.issn.1004-4507.2010.12.003

Dho3l型高浓度臭氧水溶液产生设备

引用
随着超大规模集成电路的发展,高浓度臭氧水溶液产生设备成为硅片清洗的关键设备.因此大连海事大学环境工程研究所研制成功国内首台dho31系列高浓度臭氧水溶液设备,它的臭氧水浓度达到20~30 mg/L.该设备采用强电场电离放电方法,将O2和H2O电离成高浓度氧活性粒 子O2+、O3、O(1D)、O(3P)和引发剂HO2-,在引发剂HO2-作用下,O3与H2O生成高浓度臭氧水溶液.它具有臭氧水浓度高、自动化程度高、能耗低、体积小、高性价比等特点,并着重阐述了该设备的技术先进性及性能指标.

臭氧水溶液、臭氧浓度、硅片清洗、性价比

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X505(一般性问题)

国家863资助项目2008AA06Z317;国家自然科学基金资助项目50778028

2011-04-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

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2010,39(12)

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