SUSS MicoTec推出300mm涂胶/显影机,进一步用于三维集成
@@ 2009年韩国的Semicon展,SUSS MicroTec推出了第二代ACS300.这个模式化的系统可用于直径达300mm晶片的涂胶、烘烤和显影.
300mm、涂胶、显影机、模式化、第二代、直径、系统、晶片、烘烤、韩国
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TS8;TN4
2009-05-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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