10.3969/j.issn.1004-4507.2008.10.003
基于 DMD 的步进式无掩模数字曝光方法及装置
随着器件特征尺寸的继续缩小,所需掩模的成本呈直线上升态势,为降低掩模成本,无掩模光刻技术成为人们研究的热点.介绍了一种基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法,并对用于实现该曝光方法装置的设计方案和具体实现进行了论述与分析.最后利用厚的光刻胶进行曝光工艺实验,实验结果表明,本装置可以实现亚微米级线条的刻蚀,较高的侧壁陡度,线条拼接结果良好,可以实现大面积数字式曝光.
数字微镜阵列、无掩模光刻、照明
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TN216(光电子技术、激光技术)
西部之光人才培养计划支持A07K005
2009-01-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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