改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统
论述了第五世代双扫描平台浸波式扫描曝光机的性能和进展.表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现.浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进是通过有生产价值的缺陷水平方面来体现的.为了保持这种缺陷水平的改进效果,需要在圆片应用中进行专门稳定的测量.特加是边缘空泡除去(EBR)设计和圆片斜面良流线性是很重要的.
浸液式扫描曝光机、套刻和聚焦性能、缺陷改进、污染粒子控制
37
TN305.7(半导体技术)
2008-05-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共7页
13-19
