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10.3969/j.issn.1004-4507.2007.12.012

华飞微电子:国产高档光刻胶的先行者

引用
@@ 光刻胶是集成电路中实现芯片图形转移的关键基础化学材料,在光刻胶的高端领域,技术一直为美国、日本厂商等所垄断;近年来,本土光刻胶供应商开始涉足高档光刻胶的研发与生产,苏州华飞微电子材料有限公司即是其中之一.

微电子材料、高档、光刻胶、图形转移、集成电路、化学材料、供应商、芯片、苏州、生产、日本、美国、垄断、技术、基础、厂商

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TN3;TP3

2008-04-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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1004-4507

62-1077/TN

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2007,36(12)

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