以浸没式技术引领光刻设备市场
在过去的几年中,ASML公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场,又一次刷新了半导体制造的路线图.通过对浸没式光刻技术的再现和提升,ASML公司为芯片制造商开创了一个满足更小设计尺寸要求的生产芯片的新局面
ASML、浸没式光刻、双扫描台、扫描曝光设备、二次成像、双重曝光、极紫外光刻
36
TN305.7(半导体技术)
2007-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
19-21,59
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ASML、浸没式光刻、双扫描台、扫描曝光设备、二次成像、双重曝光、极紫外光刻
36
TN305.7(半导体技术)
2007-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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