10.3969/j.issn.1004-4507.2006.04.010
LPCVD设备的高精度串级温度控制系统
在大部分半导体工艺中,温度都是最重要的工艺参数之一,炉温的均匀性和稳定度对工艺都有着至关重要的影响.主要介绍了LPCVD设备中的高精度串级温度控制系统,该系统结构简单,控制效果良好,温度稳定度≤±0.5℃/24h.
LPCVD、串级控制、温度控制
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TN304.055(半导体技术)
2006-05-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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