10.3969/j.issn.1004-4507.2006.03.011
光刻技术及其应用的状况和未来发展
光刻技术及其在产业中的开发应用一直是业界人们关注的焦点之一,概述了目前几种具有潜力的光刻机技术及其应用的状况,同时通过对相关光刻的技术性和经济性比较,简述了其未来的发展.
光刻技术、纳米制造、光子光源、极小微粒源、特理接触
36
TN305.7(半导体技术)
2006-04-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
36-42
10.3969/j.issn.1004-4507.2006.03.011
光刻技术、纳米制造、光子光源、极小微粒源、特理接触
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TN305.7(半导体技术)
2006-04-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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