10.3969/j.issn.1004-4507.2006.03.010
浸没式ArF光刻最新进展
简单概述了浸没式ArF的发展历史、特点和面临的科学技术问题,在跟踪报道国内外最新研究进展的同时,介绍前沿光刻技术的研发特点和研究手段,强调协同设计研究的重要地位,并揭示浸没式ArF光刻不是干式ArF光刻的简单移置和延续.
浸没式ArF光刻、下一代光刻、PR0LITH、MicroCruiser、分辨率增强
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TN305.7(半导体技术)
国家科技攻关项目;科技部科研项目2003CB716204
2006-04-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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