期刊专题

用于聚合物基微流体MEMS的等离子体活性晶圆键合技术

引用
Lab-on-chip或μ-TAS(micro-total analysi s systemS)结合流体处理、检测及数据分析,是一种便携式的低成本高效器件.在微流体应用中,聚合物具有比硅或玻璃器件更明显的优势,它包括:宽泛的材料选择性,成本低、效率高,使用任意性,生物兼容性,抗化学品和工艺灵活性.为了实现采用这类材料制备小型集成化系统,我们发展了新的制备与封装技术.这项工作着眼于运用等离子体活化低温直接键合技术实现纳/微结构聚合物在低温条件下进行封装.由纳米压印光刻制作的纳/微结构的聚合物器件,可能是异质(聚合物与玻璃或硅)或同质(聚合物与聚合物)键合.为了改进键合材料的物理和化学熔合,键合工序通常在接近聚合物的玻璃化转变温度的高温下进行.但遗憾的是,高温损伤了微细图形,特别是对于高深宽比结构.在EVG(R)810LT等离子体反应室里,我们采用软射频频率等离子体表面处理,来进行聚合物的等离子体活化,它能在不改变聚合物体特性的前提下清洗和活化聚合物顶层.最终结果是,在EVG(R)501晶圆键合机上,两个活化的表面在低温下通过施加一个适中的、均匀的接触压力而连接在一起,保证了空腔密封并防止了小结构的破坏和变形.键合工艺条件为:真空条件为从大气到200~100O Pa、接触压力为2~5kN、温度从室温到8 0℃.

纳米压印光刻、热压印、干法活化、等离子体活化、聚合物键合

35

TN305.93(半导体技术)

2006-03-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

46-51

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

35

2006,35(1)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn

打开万方数据APP,体验更流畅