10.3969/j.issn.1004-4507.2005.12.016
利用合适的相干因子提高光刻仿真准确性
利用光刻仿真软件PROLITH,进行了掩模版空间成像的焦深(DOF)和光学临近效应的仿真.理论上分析了照明光瞳相干因子定义法:10%能量法和10%～90%积分能量法,并发展了因子矫正法.仿真中分别代入了这三种定义法得到的照明光瞳相干因子,通过比较这三种情况与代入真实光瞳的仿真结果,发现利用因子矫正法定义真实照明光瞳的相干因子,比其它两种定义法得到的仿真结果与真实结果最接近,从而提高了仿真的准确性.
光刻、仿真、PROLITH、相干因子、光瞳
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TN305(半导体技术)
2006-01-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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